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中華網財經7月29日訊，南大光電發(fā)布公告稱，公司承擔的國家科技重大專項（02專項）“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”之“先進光刻膠產品開發(fā)與產業(yè)化”項目，今日收到項目綜合績效評價結論書，項目通過了專家組驗收。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等）。

長期以來，國內高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷，對我國芯片制造具有“卡脖子”風險。盡快實現先進光刻膠材料的全面國產化和產業(yè)化具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經濟價值。本項目研發(fā)任務的圓滿完成，預計將對公司光刻膠事業(yè)的未來發(fā)展產生積極影響。

要注意的是，公司目前的ArF光刻膠產品尚未實現規(guī)?；慨a。ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩(wěn)定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善。同時，ArF光刻膠產品國產化替代受品質、客戶的嚴格要求，后續(xù)是否能取得下游客戶的大批量訂單，能否大規(guī)模進入市場仍存在較多的不確定性。這些都會影響ArF光刻膠的量產規(guī)模和經濟效益。敬請廣大投資者注意投資風險。

資料顯示，南大光電是主要從事先進前驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導體材料產品生產、研發(fā)和銷售的高新技術企業(yè)。

值得一提的是，光刻膠及配套材料是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工。高端光刻膠是集成電路實現28nm、14nm乃至10nm以下制程的關鍵。

長期以來，全球高端光刻膠市場被以日本合成橡膠、東京應化、信越化學、富士電子材料等為代表的國外技術壟斷。

而在我國，高端光刻膠領域仍有大量品種短缺或空白，因此，高端光刻膠技術成為了我國芯片制造的“卡脖子”難題，相關領域進口替代需求緊迫。

光刻工序是集成電路制造中重要的一環(huán)，是將設計好的集成電路圖形由掩膜版轉移至硅片后再進行下一步刻蝕的工藝，是集成電路制造中耗時大、難度高的工藝。光刻時會在硅片上涂一層光刻膠，經紫外線曝光后，光刻膠化學性質發(fā)生變化，再經顯影后將曝光的光刻膠去除，實現圖形從掩膜版到硅片的轉移。光刻膠作為光刻環(huán)節(jié)的重要耗材，其質量和性能直接影響集成電路制造產線良率，是集成電路制造的核心材料之一。

按照應用領域的不同，光刻膠又可以分為印刷電路板（PCB）用光刻膠、液晶顯示（LCD）用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠。PCB光刻膠和LCD光刻膠技術壁壘相對較低，國產化率較高，而半導江蘇南大光電材料股份有限公司2020年年度報告摘要5體光刻膠代表著光刻膠技術先進水平，尤其是高端光刻膠，目前國內公司量產層面近乎空白。

我國企業(yè)也在積極研發(fā)高端光刻膠產品，以打破國外壟斷，實現光刻膠的進口替代。國內從事高端光刻膠研發(fā)和生產的公司主要有南大光電、上海新陽、晶瑞股份、北京科華等。

近期，我們可以看到，A股的光刻膠板塊備受資金追捧，截至7月29日收盤，光刻膠板塊當天更是大漲，南大光電、容大感光等個股漲停，更有多支個股漲超10%。自5月27日以來，南大光電兩個月漲幅近150%，可謂是“瀟灑”。